职位描述
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1. 负责VR LTPO新技术项目开发,完成技术可行性评估、工艺路线制定及产品不良改善等;
2. 负责TFT相关疑难及突发异常攻克、稳定性提升、特性优化及评价系统的建立;
3. 负责LTPS/Oxide小尺寸or窄沟道器件的工艺开发及理论研究工作;
4. 对团队成员相关TFT器件方向专业问题进行澄清并提供改善方向,加强团队共同认知;
5. TFT器件专业人才培养及指导;
教育程度:硕士
工作经历:
8年以上
a)具备LTPO器件开发经验,包括但不限于Oxide小尺寸or窄沟道器件开发,DIBL效应和SCE效应研究,高迁氧化物及光稳材料开发等;
b)具备LTPO器件特性改善经验,包括但不限于Vth均一性,Mobility及Ion提升,△L改善等;
c)掌握LTPO器件稳定性改善方法,具备TFT 器件击穿能力(High Voltage Breakdown Characteristic),偏压稳定性(VoltageStress stability: PBTS/NBTS/HJS/HDCS),光照稳定性(Lightstability: NBTIS/PBTIS),温度稳定性(Temperature sensitivity)等相关改善经验;
d)能够搭建TFT特性优化及评价系统。理解LTPO器件结构及工艺需求,熟悉薄膜评价手段及方法,掌握膜层缺陷改善及界面改善方法;熟悉Etch工艺,掌握Etch Profile or Taper及Bias改善方法;掌握离子注入以及退火等相关工艺极其对特性的影响,并能够整合以上工艺进行器件特性改善。
e)掌握TCAD 软件,能够通过TCAD 建模来进行标准工艺下材料水平的器件结构,辅助进行工艺调试优化;
2. 负责TFT相关疑难及突发异常攻克、稳定性提升、特性优化及评价系统的建立;
3. 负责LTPS/Oxide小尺寸or窄沟道器件的工艺开发及理论研究工作;
4. 对团队成员相关TFT器件方向专业问题进行澄清并提供改善方向,加强团队共同认知;
5. TFT器件专业人才培养及指导;
教育程度:硕士
工作经历:
8年以上
a)具备LTPO器件开发经验,包括但不限于Oxide小尺寸or窄沟道器件开发,DIBL效应和SCE效应研究,高迁氧化物及光稳材料开发等;
b)具备LTPO器件特性改善经验,包括但不限于Vth均一性,Mobility及Ion提升,△L改善等;
c)掌握LTPO器件稳定性改善方法,具备TFT 器件击穿能力(High Voltage Breakdown Characteristic),偏压稳定性(VoltageStress stability: PBTS/NBTS/HJS/HDCS),光照稳定性(Lightstability: NBTIS/PBTIS),温度稳定性(Temperature sensitivity)等相关改善经验;
d)能够搭建TFT特性优化及评价系统。理解LTPO器件结构及工艺需求,熟悉薄膜评价手段及方法,掌握膜层缺陷改善及界面改善方法;熟悉Etch工艺,掌握Etch Profile or Taper及Bias改善方法;掌握离子注入以及退火等相关工艺极其对特性的影响,并能够整合以上工艺进行器件特性改善。
e)掌握TCAD 软件,能够通过TCAD 建模来进行标准工艺下材料水平的器件结构,辅助进行工艺调试优化;
工作地点
地址:北京大兴区北京市亦庄经济开发区西环中路12号 核心能力大楼


职位发布者
HR
京东方科技集团股份有限公司

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电子技术·半导体·集成电路
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500-999人
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股份制企业
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北京市朝阳区酒仙桥路10号
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